6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100） 高抵抗（≧20000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚 1枚／箱 [45943368]
6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100） 高抵抗（≧20000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚 1枚／箱
[45943368]
販売価格: 137,840円(税込)
在庫数 7枚
商品詳細
●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
●サイズ：6インチ（SEMI）シリコンウェハ
●直径（mm）：150.0±0.2
●ウェハー厚（μm）：675±25
●製造方法：FZ法
●導電型：P型
●面方位：100
●OF方位：110
●抵抗値（Ω・cm）：≧20000
●OF長（mm）：57.5±2.5
●面状態：ミラー/エッチド
●パーティクル：≧0.3μm ≦20個
●TTV（μm）：≦25
●数量：1枚
●※特注対応品：
●▼方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●▼多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
●サイズ：6インチ（SEMI）シリコンウェハ
●直径（mm）：150.0±0.2
●ウェハー厚（μm）：675±25
●製造方法：FZ法
●導電型：P型
●面方位：100
●OF方位：110
●抵抗値（Ω・cm）：≧20000
●OF長（mm）：57.5±2.5
●面状態：ミラー/エッチド
●パーティクル：≧0.3μm ≦20個
●TTV（μm）：≦25
●数量：1枚
●※特注対応品：
●▼方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●▼多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
【在庫数について】
商品ページに表示されている在庫数は通販サイト上の在庫数となります。各店舗の在庫数とは異なりますのでご注意ください。
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